Fontes Pulsadas de Alto Desempenho para Geração de Plasma e Arcos Elétricos

O Plasma LIITS oferece fontes pulsadas construídas com componentes semicondutores de potência de última geração, controle local o remoto totalmente automatizado mediante microcomputador e Controlador Lógico Programável. Dependendo da aplicação, a fonte pode ser construída com características especificas. Como exemplo, a foto mostra uma fonte usada para nitretação por plasma pulsado com as seguintes características (ver figura).

Figura: Painel superior: Fonte pulsada. Painel inferior: Interior.

 

  • Tensão de pulso ajustável em forma contínua de 0 – 1000 V
  • Corrente de pulso: ajustável de 0-60 A
  • Duração do pulso: ajustável 30-1500 ms, em degraus de 1 ms
  • A estabilidade da corrente, melhor que 0.1 %, permite uma perfeita uniformidade em aplicações de nitretação a plasma.
  • Controle da fonte por Controlador Lógico Programável.
  • A fonte está protegida por um sistema supervisor de arcos que interrompe a corrente do plasma em um tempo de 1 ms, para evitar danos durante o processo ao material sendo tratado assim como protegendo o próprio equipamento.

6-2005 :Com data 07-05-2005 foi entregue a fonte pulsada  Plasma–LIITS  Pulsa 20 para nitretação iônica encomendado pelo Instituto de Física da UFRGS.

Esquerda: A fonte Pulsa20. Direita: A fonte sendo despachada para a URGDS.Caracteristicas da Plasma–LIITS  Pulsa 20

  • Tensão de pulso variável de 0 – 900 V

·         Corrente de pulso: ajustável continuamente de 0-20 A.·         Duração do pulso: ajustável 30-1500 ms, em degraus de 1 ms·         Duração do tempo entre pulsos: ajustável entre 30-1500 ms em degraus de 1 ms.·         Estabilidade da corrente, melhor que 0.1 %.·         Controle da fonte por Controlador Lógico Programável.·         Capacidade para programar e armazenar ciclos completos de operação da fonte.·         A fonte está protegida por um sistema supervisor de arcos que interrompe a corrente do plasma em um tempo de < 1 ms, para evitar o deterioro das peças.