Sistemas de Alto Vácuo

Sistemas de Alto Vácuo

 

O Plasma LIITS oferece sistemas de alto vácuo para diversas aplicações. Como exemplo, a figura 1 mostra um sistema de sputtering assistido por feixe iônico que opera no Laboratório de Pesquisas Fotovoltaicas UNICAMP. A câmara esta construída em aço inox 316 soldada e testada com Helio, entradas de gases com tubulações de 5mm de diâmetro também em aço inox 316, flanges tipo conflat o viton de acordo com a solicitação, visores, e uniões tipo VCR.

   

Figura 1: Painel superior: esquema e vista geral do sistema de sputtering assistido por feixe iônico. Painel inferior: vista geral do sistema real.

Figura 2: Passante rotatório para alto vácuo.

 

Este equipamento possui porta alvo rotatório para alojar ate quatro tipos diferentes de materiais, permitindo a deposição de filmes multicamadas por sputtering e assistido por feixe iônico. A câmara de alto vácuo possui entradas adequadas para permitir adicionarem dispositivos tais como os canhões de tipo Kaufman desenhados na Figura 1. Normalmente o vácuo e realizado pela parte inferior da câmara. No caso deste equipamento, o substrato e posicionado mediante uma estação de precisão x-y-z, com temperatura controlada. O sistema pode ser munido de manipuladores para transferência de amostras a câmara anexa para ulteriores processos. De acordo as necessidades, o sistema pode estar equipado com canhões de tipo DC e/ou micro-ondas.

Na figura 2, pode-se observar um passante rotatório de alto vácuo. Passantes elétricos para baixa e alta tensão também são fabricados sobre encomenda.

 

Video

O vídeo mostra operadores do sistema  Dual Ion Beam Assited Deposition e espectroscopia de elétrons foto-emitidos.